科學實驗用小型真空鍍膜機，適用于材料、物理、電子、能源、機械等學科領域的科學研究與技術(shù)開發(fā)，主要用于功能薄膜材料與器件的制備以及材料的表面處理。產(chǎn)品種類主要包括磁控濺射實驗設備、真空蒸鍍實驗設備以及手套箱集成真空鍍膜設備。

產(chǎn)品優(yōu)點：
實驗用真空鍍膜機具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、易維護的特點。可實現(xiàn)全自動控制或手動控制、操作簡單可靠，可自動完成各種鍍膜工藝參數(shù)。
薄膜性能穩(wěn)定、鍍層附著力好，鍍層細膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好。
基底和薄膜材料選擇廣泛、可沉積多層膜，可沉積金屬、陶瓷、有機類薄膜材料。
可將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜，同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜，增加了設備的用途和靈活性。
可將真空鍍膜機與惰性氣氛手套箱集成，整個鍍膜工藝、及后續(xù)的器件制備與封裝都在真空與惰性氣氛下進行，適用于對水氧敏感的有機半導體材料及鈣鈦礦材料的制備。