集流體磁控卷繞鍍膜設(shè)備(NH-MGCC系列) | |||
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NH-MGCC1200TEX | NH-MGCC1350TEX | NH-MGCC1500TEX |
真空室尺寸 | D1200mm×H1000mm | D1350mm×H1200mm | D1500mm×H1200mm |
制膜種類 | EMI防電磁干擾屏蔽膜、金屬導(dǎo)電膜等 | ||
電源類型 | 直流磁控電源+高壓離子轟擊電源 | ||
圓柱靶 | 直流磁控靶(無(wú)氧銅靶+不繡鋼靶) | ||
真空室結(jié)構(gòu) | 立式雙開門、立式單開門 | ||
真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統(tǒng)) | ||
充氣系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制儀(1-3路) | ||
極限真空 | 6×10-4pa(空載、凈室) | ||
抽氣時(shí)間 | 空載大氣抽至5×10-3 pa小于6分鐘 | ||
工件旋轉(zhuǎn)方式 | 真6軸/8軸/9軸公自轉(zhuǎn)/變頻無(wú)級(jí)調(diào)速 | ||
控制方式 | 手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)—體化/觸摸屏+PLC | ||
備注 | 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做 |