氫能雙極板鍍膜設備 NH-MGH系列 | |||
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NH-MGH850TED | NH-MGH1000TED | NH-MGH1200TED |
真空室尺寸 | D850X900 | D1000X1100 | D1200X1500 |
均勻可鍍區(qū) | D500XH500 | D650XH650 | D880XH1100 |
極限真空度 | 3.0*E-4Pa | ||
壓升率 | 0.1Pa/hr | ||
轉架形式 | 標配兩套轉架系統(tǒng)+周轉小車 采用整進整出形式 產(chǎn)品可爐內(nèi)一次性翻面沉積 | ||
沉積裝置 | 平衡磁控或非對稱磁控+陽極層離子源+過濾電弧 | ||
離子輔助裝置 | 燈絲離子源+陽極層離子源 | ||
真空檢測 | 復合真空計+薄膜真空規(guī) | ||
加熱系統(tǒng) | 400℃,3根熱電偶監(jiān)測 | ||
冷卻水循環(huán)系統(tǒng) | 配日本SMC水流開關,智能控制 IPC+PLC全自動控制 | ||
極限載重 | 300KG | 500KG | 1000KG |
生產(chǎn)運行周期 | 涂層(2um), 8-12小時/爐 | 涂層(2um), 8-12小時/爐 | 涂層(2um), 8-13小時/爐 |
控制系統(tǒng) | 觸摸式 手動 全自動 帶自動暖機 智能無人值守關機聯(lián)動系統(tǒng) |